根据《华中科技大学科技成果转化管理办法》规定，对我校机械科学与工程学院陈蓉老师团队的“一种原位椭圆偏振测量装置等两项发明专利”成果转化相关事项公示如下：
一、成果名称及简介
成果包含2项知识产权：
（1）发明专利：一种原位椭圆偏振测量装置
发明人：陈蓉，何文杰，曹坤，周雪琪，单斌，文艳伟
专利号：ZL201310571593.2
专利权人：华中科技大学
简介：一种原位椭圆偏振测量装置，包括密封盖（100）上设置供偏振光入射与反射的入射孔（106）和反射孔（107），并在外开口处设置密封的入射透光口（108）和反射透光口（109），从而可以保持薄膜反应腔密闭状态下，在整个原子层沉积过程中随时测量薄膜厚度，并且通过光路孔的腔内开口与反应腔的进气口与出气口错开设置，使反应腔的气体流动不易进入光路孔，从而避免在光路孔内壁沉积反应物，无需复杂的定期清洗，整个测量装置结构简单、紧凑，使用方便。
（2）发明专利：一种多元物质原子层沉积膜制备方法及装置
发明人：陈蓉，褚波，何文杰，高玉乐，单斌，文艳伟
专利号：ZL201310636805.0
专利权人：华中科技大学
简介：本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置，所述方法，即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动，依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统，基片通过每个原子层沉积系统时：调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置，包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置；原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统；基片承载台，设置在原子层沉积反应腔下方；运动平台，与基片承载台连接，带动基片承载台运动；温度控制装置，设置在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜，所述装置，能方便的通过现有原子层沉积系统组装，兼容性强，功耗低，沉积效率高。
二、拟交易价格
普通许可：10万元。
三、价格形成过程
经全体发明人同意，并与北京北方华创微电子装备有限公司协商，双方同意以10万元实施普通许可，许可期限为9年。
特此公示，公示期15日，自2024年11月6日起至2024年11月20日。如有异议，请于公示期内以书面形式实名向我院反映。
联系人：尹老师、徐老师
联系电话：87558732
科学技术发展院
2024年11月6日
