根据《华中科技大学科技成果转化管理办法》规定，对我校光学与电子信息学院甘棕松老师团队的“一种双光束微纳光学制造方法等两项专利”成果转化相关事项公示如下：
一、成果名称及简介
成果包含2项知识产权：
（1）发明专利：一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法
发明人：甘棕松，刘紫玉，王端
专利号：ZL202110352405.1
专利权人：华中科技大学
简介：本发明属于光刻领域，更具体地，涉及一种合作吸收双光束超分辨光刻系统及方法。该系统包括光源模块、光刻光路模块以及光刻胶模块；光源模块包括第一光源和第二光源，使用两束相同或不同波长的光，一束为制造光，另一束也为制造光，两束光被调制成平行光束，经过光刻镜头进行叠加，叠加部分形成叠加光斑，用于光刻制造，由于叠加部分的光场很小，从而达到超衍射极限的光刻分辨率。两束光对光刻胶材料共同作用，最终消除第一束光由衍射带来的对图案边缘的影响，使得图案更加明锐，提高分辨率。
（2）发明专利：一种双光束微纳光学制造方法
发明人：甘棕松
专利号：ZL201810014541.8
专利权人：华中科技大学
简介：本发明涉及一种双光束微纳光学制造方法，其步骤包括：S1根据待辐照加工材料的材料特性提供一制造光，在制造光的辐照下待辐照加工材料的材料性能发生改变；S2根据待辐照加工材料的材料特性提供一辅助光，辅助光能够阻碍待辐照加工材料在制造光的辐照下所发生的材料性能变化；S3调控制造光和辅助光，使得制造光在待辐照加工材料上所形成的第一局域光场分布和辅助光在待辐照加工材料所形成的第二局域光场分布的焦点在空间上重合，在第一局域光场的范围内形成未被第二局域光场重合的且作用于待辐照加工材料上的加工光场。本发明的制造方法可实现更小的特征尺寸，更高的分辨率，制造出的图案和结构具有较好的力学性能。
二、拟交易价格
协议转让：20.45万元。
三、价格形成过程
学校委托评估公司对该项目进行资产评估，基于评估价参考，经全体发明人同意，并与武汉软盈信息技术有限公司协商，双方同意以协议定价20.45万元实施转让。
特此公示，公示期15日，自2025年9月3日起至2025年9月17日。如有异议，请于公示期内以书面形式实名向我院反映。
联系人：尹老师、徐老师
联系电话：87558732
科学技术发展院
2025年9月3日
